關鍵特性

　　高純度：通常要求鉬含量≥99.95%，雜質（如Fe、Ni、O、C等）極低，確保性能穩定。

　　耐高溫：熔點高達2620℃，在高溫下仍保持強度和形狀。

　　低熱膨脹系數：適合高溫環境下的精密器件。

　　良好導熱/導電性：優于多數金屬，適用于電子元件。

　　耐腐蝕：抗熔融金屬和酸堿侵蝕（但高溫下易氧化，需保護氣氛）。

　　主要應用領域

　　半導體行業：用于晶圓制造中的加熱器、濺射靶材、舟皿等。

　　光伏產業：薄膜太陽能電池的背電極材料。

　　高溫爐部件：如發熱體、隔熱屏、支撐架（需氬氣或氫氣保護）。

　　航空航天：火箭噴嘴、高溫結構件。

　　醫療設備：X射線管靶材、放療部件。

　　玻璃工業：熔融玻璃的電極和攪拌棒。

　　生產工藝

　　粉末冶金：高純鉬粉經等靜壓成型→高溫燒結→軋制→退火。

　　電子束熔煉：進一步提純，減少雜質。

　　冷軋/熱軋：制成不同厚度的板材（常見厚度0.1mm~10mm）。

　　表面處理：酸洗、拋光或涂層（如硅化物抗氧化涂層）。